Танталовый лист 5х50х100 мм ТВЧ в Находке

Для повышения твердости танталового листа могут применяться покрытия, такие как нитрид тантала (TaN) или карбид тантала (TaC), нанесенные методами физического или химического осаждения из газовой фазы. Эти покрытия значительно увеличивают износостойкость поверхности при сохранении коррозионной стойкости основы.

Танталовый лист определенной марки, такой как ТВЧ или ТВ-10, применяется в ядерной промышленности для изготовления теплообменников, корпусов химического оборудования, деталей реакторов и облицовок. Его высокая коррозионная стойкость к агрессивным средам и хорошая нейтронная прозрачность делают его ценным для таких применений.

К плоскостности танталового листа предъявляются требования, определяемые стандартами. Они минимизируют волнистость и коробление, обеспечивая равномерность поверхности. Допуски на плоскостность важны для дальнейшей обработки листа, например, для сварки или напыления.

Для использования в условиях вакуума при температурах до 1500°C без значительного испарения подходят танталовые листы марки ТВЧ и легированные вольфрамом марки ТВ-10. Тантал имеет очень низкое давление паров при этих температурах, что обеспечивает его стабильность и минимальную потерю массы.

Возможны различные виды поставок танталового листа, включая листы различных размеров и толщин, а также рулоны для тонкого листа (фольги). Выбор вида поставки зависит от требуемых размеров и удобства дальнейшей обработки потребителем.

Танталовый лист марки ТВ-10, легированный 10% вольфрама, обладает значительно более высокой твердостью по Бринеллю по сравнению с чистым танталом (ТВЧ). Эта повышенная твердость обеспечивает лучшую износостойкость, что делает его предпочтительным для применений, где требуется сопротивление абразивному или эрозионному износу.

В производстве анодов для электролитических конденсаторов применяются танталовые листы высокой чистоты, прежде всего марки ТВЧ. Его способность к формированию стабильной и тонкой диэлектрической оксидной пленки с высоким пробивным напряжением критична для характеристик конденсатора.